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            臺階儀在半導體行業中的廣泛應用及其重要意義

            更新時間:2023-12-26      點擊次數:141

            臺階儀在半導體材料的表征和研究中是一種非常重要的工具。如在半導體材料的制備過程中,一些關鍵的工藝參數,如溫度、壓力、氣氛等條件的變化,會導致半導體材料的能帶結構發生變化,通過使用臺階儀,可以準確測量和分析材料,從而了解工藝參數對材料性質的影響,及時調整工藝條件以提高制程的穩定性和一致性;又或是在半導體材料的生產過程中,常會出現摻雜不均勻、雜質含量超標等問題,這些都會導致材料的能帶結構發生變化,從而影響材料的性能,通過利用臺階儀進行表征分析,可以快速檢測出材料的質量問題,幫助制造商和研發人員發現和解決問題,從而提高產品質量和性能。


            CP系列臺階儀是一款采用可變差動電容傳感器LVDC的超精密接觸式微觀輪廓測量儀,具備影像導航功能的亞納米級分辨率(0.1nm的縱向分辨率),主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數的測量。

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            線性可變差動電容傳感器(LVDC),具有亞埃級分辨率,13um量程下可達0.01埃,滿足被測件測量精度要求。高信噪比和低線性誤差,使得產品能夠掃描到幾納米至幾百微米臺階的形貌特征。


            測量特點

            1、1~50mg可調微測力,實現無損檢測的接觸式測量;

            2、測量膜厚或粗糙度,不受基材透射率影像,規避光學儀器的弱點;

            3、具備3D掃描和成像顯示功能;


            臺階儀在半導體的應用有哪些?

            在半導體中,臺階儀的應用主要包括以下幾個方面:

            1. 薄膜材料厚度(2D)測量和表面形貌測量(3D):臺階儀可以精確獲得定量的臺階高度、線粗糙度、薄膜曲率半徑,以及測量薄膜應力等。

            2. 沉積薄膜的臺階高度測量:臺階儀可以用于測量沉積薄膜的臺階高度,這對于確保半導體芯片的質量和性能具有重要意義。

            3. 抗蝕劑(軟膜材料)的臺階高度測量:臺階儀可以用于測量抗蝕劑(軟膜材料)的臺階高度,這對于評估抗蝕劑的性能和選擇合適的抗蝕劑具有重要意義。

            4. 蝕刻速率測定:臺階儀可以用于測量蝕刻速率,這對于評估蝕刻工藝的性能和優化蝕刻工藝具有重要意義。

            5. 化學機械拋光(腐蝕、凹陷、彎曲)測量:臺階儀可以用于測量化學機械拋光(腐蝕、凹陷、彎曲)的效果,這對于評估化學機械拋光工藝的性能和優化拋光工藝具有重要意義。


            臺階儀測量晶圓表面光刻膠粗糙度案例

            在半導體行業中,晶圓表面的粗糙度,尤其當晶圓表面被氧化后,引起氧化層的透光性,此時采用臺階儀能夠獲取準確有效的數值。

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